無(wú)掩模納米光刻機(jī)

          無(wú)掩模納米光刻機(jī)

          交易信息:
          完全轉(zhuǎn)讓-0.00 元
          技術(shù)領(lǐng)域:
          應(yīng)用領(lǐng)域:
          最后更新時(shí)間:2022-07-28 15:36
          所在地:
          吉林省 長(zhǎng)春市 南關(guān)區(qū)
          所有者:
          飆飆
          聯(lián)系方式:
          13756056562
          這套系統(tǒng),在計(jì)算機(jī)的控制下可直接在光或熱阻薄膜材料上形成數(shù)十納米級(jí)任意形狀的納米構(gòu)造,可獲得導(dǎo)體,半導(dǎo)體和絕緣體的相應(yīng)構(gòu)造,可在制造納米電極和納米電路、生物醫(yī)療納米器件、超大規(guī)模電路的納米特征尺度掩膜等領(lǐng)域獲得廣泛應(yīng)用。納米無(wú)掩模光刻技術(shù)迎合了微納器件制造的發(fā)展趨勢(shì),能克服目前的光刻技術(shù)由于掩模成本不斷增加所帶來(lái)的困難。

          這套系統(tǒng),在計(jì)算機(jī)的控制下可直接在光或熱阻薄膜材料上形成數(shù)十納米級(jí)任意形狀的納米構(gòu)造,可獲得導(dǎo)體,半導(dǎo)體和絕緣體的相應(yīng)構(gòu)造,可在制造納米電極和納米電路、生物醫(yī)療納米器件、超大規(guī)模電路的納米特征尺度掩膜等領(lǐng)域獲得廣泛應(yīng)用。納米無(wú)掩模光刻技術(shù)迎合了微納器件制造的發(fā)展趨勢(shì),能克服目前的光刻技術(shù)由于掩模成本不斷增加所帶來(lái)的困難。


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