X射線熒光（XRF）微區(qū)鍍層測(cè)厚儀

當(dāng)一束激勵(lì)X射線照射到樣品上，鍍層和基底中的元素都放射出特征熒光X射線（XRF）。鍍層熒光X射線的強(qiáng)度隨鍍層厚度而增加;基底熒光X射線的強(qiáng)度隨鍍層厚度而降低。根據(jù)這類關(guān)系，測(cè)定熒光X射線的強(qiáng)度，便可以計(jì)算出鍍層的厚度。普通XRF儀器的照射區(qū)域比較大，不適用于精微細(xì)小、形狀復(fù)雜的樣品。微區(qū)XRF儀器將微束X射線集中照射在很小的區(qū)域內(nèi)（專利ZL94112117.8），采用激光定位技術(shù)（專利ZL97235392.5），能方便地選擇樣品上任意部位進(jìn)行精確測(cè)量。XRF微區(qū)鍍層測(cè)厚儀的國(guó)內(nèi)市場(chǎng)需求量每年約300臺(tái)（以每臺(tái)20萬(wàn)計(jì)算，每年需求額約6000萬(wàn)元），絕大部分來(lái)自三家外國(guó)公司（美國(guó)CMI公司，德國(guó)Fischer公司和日本精工舍公司）。中科院上海應(yīng)用物理研究所凝聚其30多年從事X射線熒光（XRF）技術(shù)研究的經(jīng)驗(yàn)，結(jié)合其近年來(lái)在微區(qū)分析領(lǐng)域取得的成果，于1994年研制成功XRF系列微區(qū)鍍層測(cè)厚儀，受到用戶好評(píng)。這項(xiàng)研究成果的目標(biāo)是在鍍層質(zhì)量檢驗(yàn)中，用我國(guó)高新科學(xué)技術(shù)，取代昂貴的進(jìn)口儀器。該項(xiàng)產(chǎn)品已通過(guò)國(guó)家技術(shù)監(jiān)督局鑒定，性能指標(biāo)達(dá)到進(jìn)口儀器的水平，它的價(jià)格只有進(jìn)口儀器的幾分之一，是一種比較先進(jìn)而實(shí)用的質(zhì)量檢驗(yàn)儀器，適合于電子元件，精密機(jī)械 ，鐘表眼鏡，制筆工藝，珠寶首飾及其它電鍍行業(yè)推廣使用。